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由于有发放的具体实验操作步骤,两个多小小时候就合成了相应的产物。

李默戴着口罩和手套,小心翼翼地将制成的这种未知的黑色粉末密封起来,拿到电子显微镜下面开始观察。

找了不到三分钟后才发现了许黎所描述的十二边氧化硅分子。

看到这里后,李默申请也是有些兴奋。

没想到这种化合分子真的存在,随即他便开始吩咐几个研究人员。

“准备气相沉积!”

气相沉积简称cvd,是指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。qqxsnew

很多大规模的集成电路中的很多薄膜,往往都是通过气相沉积制备的。

主要也分为热化学气相沉积、低压化学气相沉积和等离子体化学气相沉积,这三种对应的实验设备和手段�

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